另一个时空，光刻机的发展经过了一个漫长的过程，1960年代的接触式光刻机、接近式光刻机，到1970年🝁代的投影式光刻机，1980☸🄉🞼年代的步进式光刻机，到步进式扫描光刻机，到浸入式光刻机和8102年的EUV光刻机，设备性能不断提高，推动集成电路按照摩尔定律往前发展。
曝光光源方面，从1960年代初到1980年代中期，汞灯已用于光刻，其光谱🚮🖰🖍线分别为436ng线）、405nh线）和365ni线）。然而，随着半导体行业对更高分辨率（集成度更高和速度更快的芯片）和更高产量（更低成本）的需求，基于汞灯光源的光刻工具已不再能够满足半导体业界的高端要求。
1982年，IBM的KantiJain开创性的提出了“exbsp;laserlithography（准分子激光光刻）”，并⚹🖓进行了演示，现在准分子激光光刻机器（步进和扫描🚲🗑🚷仪）在球集成电路生产中得到广泛使用。在在发展的30年🚎💌🐞中，准分子激光光刻技术一直是摩尔定律持续推进的关键因素。使得芯片制造中的最小特征尺寸从1990年的500nnbsp;推进至2016年10n再到8102年的台积电和三星实现量产的7nnbsp;产品。
这其中，汞灯的👌436ng线）、405nh线）和3🁿65ni线），准分子激光248n指的是光刻机用来光刻的曝光光源。
1971年Intel公司推出的10微米球第一款4004微处理器，再到1980年2微米工艺的256KbDRAM，198🝎🍷4年1微米工艺的1MbDRAM，再到1991年此时即将问世的0.35微米工艺的64MbDRAM……10微米到0.35微米，指的是通过光刻机光刻等工艺，在芯片内部中，晶体管之间或者线最小可💀🎳以做到的距离。
微⚄🎹🕾米和纳米的概念，到🎧📜底有多宽或者多细，大家可以体会一下：
1毫米（）等于1000微米（μ，一微🖾😐🀡米（）等于1000🙆纳⛆米（n。
而成年男性的头发直径一般在40到80微米之间，女性的头发直径则一般在20微米到40微米之间，小孩子的头发则🃟是40微米左右。
也就是说，🄲🁠此时工艺为1微米的芯片中，晶体管的线宽大概是小孩头发直径的1/40；换而言之，🅨直径40微米的头发横切之后的面积上，按照1微米的工艺光刻，可以光刻20-30个晶体管！
而光刻工艺越好，工艺制程越小，☒⚡📀芯片集成度越🇳🜨🄯高，性能越好，功耗越☣🁒低。
所以，电子产品不🚬🖝断追求卓越性能的背后，是芯片的处理能力🙆的不断上升！而反应到芯片生产厂家和芯片制造设备上，就是对芯片制程工艺的不断缩小和光刻机等🁽设备光刻特征尺寸的不断缩小。
所以，余子贤一👌心一想要ASML可以制造出0.8微米工艺制程芯片的PAS5000光刻机，最次也要拿到1.2微米的PAS2300光刻机。甚至不惜，给ASML制造一些紧张气息，透露PAS5500扫描式步进光刻机的相关信息！
“你怎么知道我们PAS5500型📿光刻机即将上世的？”里托斯·基维先生站了起来，怼着余子贤的脸，严肃的问道！
“里托斯·基维👌先生，我们的合作的可能已经消失了……所以，很抱歉，我不可能告诉你原因的！”
“不不……余先生，一切皆有可能！”
“走吧……”余子贤直接带头站了起来，带着其他几个人向外走去🍠！
余子贤就这样走出去，虽然更多的是想给ASML一些压力，让他们退让，愿意以合理价格出售自己想要的光刻机！就算是1微米的PAS2500出售有困难，但是如果ASML可以无偿将1🅌🅇.5微米的PAS2300升级到1.2微米，倒也不是不可以接受。🗂😴🅨
不过，余子贤在看到天下的乌鸦一般黑之后，已经做好了最坏的打算。之前，余子贤本来想着捡PA🅨S2300的便宜，可是如果只是1.5微米的制程，余😆子贤还想再看一看，他想让曹飞他们再重点公关一下佳能，或许以可以接受的价格引进1.2微米的光刻机有可能！
里托斯·基维一看余子贤直接到这人走了，也是有点急了，再次大声喊☣🁒道：“余先生，你等一🆐🎱🔺等，我立即向总部申请！”
牵扯到PAS5500光💓刻机的上市，他不得不慎重。更何况，在他看来，🜺香积电确实是PAS2300光刻机非常合适的买主！