“李斯特先生，你们ASML公司发布最新款PAS550👎🇪0光刻机上市，我们在此热烈恭贺。不过因为此，让使用你们ASML光刻机的我们却深受牵连啊……这尼康、佳能为首的曰本设备厂商居然直接干涉上游半导体材料厂商的销售……”说🉈🅖到这里，余子贤停了停，盯了李斯特十秒钟才说到:“李斯特先生，您不想说点什么？”
“这……我首先代表ASML感谢余总大力支持。同时，🖾😋也对因为我们而使香积电正常生产可能🌸🜕的受损，深表歉意！不过，我想强调的是目前信息都只是小道消息，真实性到底怎么样，还有待进一步确认！”李斯特，尴尬的笑了笑，对着余子贤等人说到。
十天前，也就是1991年9月26日，被ASM🈳L寄予厚望的PAS5500光刻机在美国和曰本同步隆重推出。
这一次ASML推出了的PAS5500扫描式步进光刻机，拥有此时半导体行业领先的生产力和分辨率，一经发售，短短几天就被欧美各大厂商青睐。此时在曰本也已经引起了东芝和日⚳🕟立等曰本本土厂商关注。
而历史上，也正是PAS55🉑00取得了巨大成功。就是在二十年后，任有5500系列的机子被大量使用，由此可见PAS5500系列的光刻机产品的性能和稳定性。
正是这5500系列的推出，标🁿志着ASML在欧美💶厂⛞商的支持下开始走向成熟。
不同于ASML成立之初推出坑爹的油压机械式PAS2000，1986年，ASML公司💺采用新的对中技术推出PAS2500步进式光刻机，开始在市场上建立起一定的名气，同年与镜片制造商CarlZeiss建立合作伙伴关系。
有了PAS2500型光刻机带来的市场和利润，ASML励精图治，在今年也就是十天前正式推出了PAS5🞓500型光刻机。
只是，PAS5500为ASML赚足了眼球和大量订单的同时，也让尼康为首的一帮曰本厂商警惕，警⚃惕这个之前一直未曾瞧在眼里的光刻机小弟弟。
看到半导体厂商开始份份接触ASML，以及心急的已经下了订单，尼康和佳能也坐不住了，开始联系🀛♈🆗半导体制造大厂。
只是除了曰本的厂商积极赴约之外，其他的🞄欧美厂商只是客气答应，但就是不见人影。
不过这也可以理解的。半导体设备的更新换代，推动半导体工艺、半导体产品及整个电子装备的更🏀🗀😥新。
因此，从本👏质上讲，半导体设备不仅支撑集成电路产业的发展，同时也支撑整个电子信息产业的发展🌟。
半导体设备包括前道设备、后道设备、制版设备、材料制备设备等，其中最为关键的是前道微细加工设备(包括对半导体芯片进行曝光、刻蚀、掺杂、薄膜生长等工艺🍢加工的设备，以及测量设备)。
而微细📺加工技术的核心，是💋🐔⛏微细光刻技术，光学光刻设备的进步。
自20世纪80年代后期，光学光刻技术的重点由Q线转向i线和准分🔤🂥🐼子。到90年代初i线光刻开始应用。。
在ASML👏推出PAS-5500之后，后续日本厂商陆续推出了自己第一款i线步进投影光刻机，比如曰本NikonNSR1775iTA型，FPA-200i型，日立LD-5015iCW型，美国V🗢strastep2020i和2244i型等。
这些机型均可实现0.5μ辨率，满足16MDRAM芯片，光刻6-8英🎤📅寸的片子。
简而言之，就是P🎌🏩🜬AS开了一个技术先河，当起了这个时候光刻机发展的领头羊。
不是尼康的技术不先进，而是ASML打破了以往尼康和佳能独霸的局面，这是除曰本之外的各大半导体⚃生产厂商所喜闻乐见的。